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積體電路搞產業投資,牽涉到的政策和資金都不是一家之事。
上午和下午連續兩場會議基本敲定了推動的意願。
僅在傍晚,方卓和江上洲又被通知第二天繼續組團跟著到各部門開會,而在晚餐過後,方卓又接到大秘的詢問電話,確認後續數天的行程安排。
方卓和長三角商協會有個訪歐經貿活動安排,這個是已經提前打過招呼的,電話裡就在考慮不要耽誤了另外的事情。
不過,他在來京之前就確定將會在30號率隊飛往歐洲,開啟為期兩週的交流活動,時間上儘量避開歐洲聖誕節的假期。
晚上無會,方卓和一眾人算是心情稍微放鬆一些的討論具有建設性的建議。
可是,討論到一半,江上洲注意到剛剛接了電話的方總臉色有點微妙。
“怎麼?”江上洲詢問。
“好像是有人聞著味來的想交朋友。”方卓一邊這麼說,一邊拿起外套。
江上洲皺眉道:“我和你一起去?有的話我說比較好。”
“被我婉拒了。”方卓笑道,“我說我晚上有會,人家也沒說什麼。”
江上洲頷首,領導雖然沒安排會,但方總找上門總是沒問題的。
方卓走了兩步,向邱慈雲要了份冰芯“45奈米級大規模積體電路大生產關鍵技術研究”的材料,又對江上洲笑道:“我換個部門,去找發改的領導聊聊我們的進展。”
相較於跑政策要資金,沒準這個還更受領導歡迎。
按照內部規劃,冰芯明年第三季度會嘗試45nm的風險量產,如果一切順利,年底或許能實現這一製程的量產,目前已經與大客戶在進行相關合作。
從工藝演進上來說,縮小柵極寬度一直是突破製程的方法,這一點在65nm45nm的研發上也相對順遂,梁孟淞06年離開臺記的時候,臺記已經試產出45nm晶片,具體經驗仍然行之有效。
只是……
“我們在45nm工藝研發上打算採用低k電介質,這一點和世界主流廠商都是一致的,尤其,今年我們剛剛迎來梁孟淞博士的團隊,很確定臺記在45和40都是這一做法。”
“但是45/40nm以後就需要引進高k電介質材料了。”
“哦,領導們,這個低k/高k電介質是什麼呢?”
“k就是介電常數,是表示絕緣能力特性的一個係數,一般這個常數大於3.9,我們就叫高k,小於就是低k,不過ibm把標準定在了2.8,業界也大多以2.8作為低k電介質的k值上限。”
“ibm現在雖說找到了高k電介質材料,但它沒有在45nm產品上採用這一工藝,很可能會在下一代的32nm上引用。”
“說到這一點啊……”
方卓坐在發改的辦公室裡頓了頓,掃視努力睜大眼聽自己闡述材料的領導們,嘆了口氣:“說到這一點,可能我就得再多說一說了。”
一位晚上臨時加班的司長聽到這裡,終於忍不住插嘴道:“方總,我們大概理解這個低k電介質的關鍵工藝了,是不是可以談談冰芯明年更具體的規劃?”
“劉司長,這一點很重要,嗯,好吧,回頭我再遞一份詳細材料,這裡就不佔用大家時間了。”方卓翻了翻檔案。
會議室裡的數位領導輕輕舒了口氣,有的喝茶,有的放筆。
“冰芯明年的規劃,其實不能光說是明年的規劃,從今年十月份開始,我們冰芯就投入了更多的研究經費,旨在提升我們的短板。”方卓認真的說道,“更直白的說吧,也是向競爭對手臺記學習。”
“我們在電晶體結構、高遷移率通道以及低尺寸材料和器件方面都有所立項。”
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